一种干法刻蚀坚硬无机材料基板的装置,包括主支架和副支架,所述主支架上安装有刻蚀腔和分子泵,所述刻蚀腔与分子泵连接,所述副支架上安装有预真空腔,所述预真空腔与刻蚀腔连接,所述预真空腔内安装有将片盘输送到刻蚀腔的机械手,所述预真空腔与刻蚀腔均与抽真空用的机械泵连接;所述刻蚀腔的下方安装有可带动片盘在刻蚀腔内运动的下电极,所述下电极与RIE射频电源连接;所述刻蚀腔和预真空腔上均连接有进气管道,所述进气管道与控制其通气的通气系统连接,所述刻蚀腔的进气口上连接有ICP射频电源;所述机械手与下电极分别与带动其运动的伺服电机连接,所述伺服电机均与控制其运动的伺服电机控制器连接。
专利号 | CN202259195U | 专利分类 | 实用新型专利 |
专利交易状态 | 转让技术成果 | 有效截止时间 | 2020-08-23 |
合作方式 | 成果转让 |
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